Хикмат А. Хамад, Нибрас Ф. Али и Хайтам М. Фарок
Эксплуатационные характеристики источника ионного распыления низкой энергии
В этой работе разработан и сконструирован модифицированный источник ионов Фримена, используемый для ионного распыления. Выбор этого источника ионов был основан на его замечательном успехе в полупроводниковой промышленности, использующей методы ионной имплантации. Приведено подробное техническое описание конструкции и изготовления источника ионов. Были выполнены измерения тока термоионной эмиссии и тщательно отслеживались характеристики разряда источника ионов. Также было изучено влияние некоторых параметров, таких как: напряжение распыления, давление, напряженность магнитного поля, напряжение дуги и ток накала на величину тока распыляемого электрода. Было обнаружено, что эти параметры можно независимо изменять, что позволяет нам контролировать работу источника ионов и процесс распыления. Первичные результаты извлеченных ионных пучков с использованием простой пластины извлечения из нержавеющей стали показывают снижение обнаруженного полного тока ионного пучка в процессе распыления.
English 
Spanish 
Chinese 
German 
French 
Japanese 
Portuguese 
Hindi